ストリームラインプラットフォーム採用 ArFスキャナー「NSR-S320F」の発売
2011年12月5日PRESS RELEASE/報道資料
株式会社ニコン（社長：木村眞琴 東京都千代田区）は、高精度と高生産性をコンセプトとしたArFスキャナーの最新機種「NSR-S320F」の販売を開始しました。
液浸スキャナーで定評のあるプラットフォームを採用することにより、重ね合わせ精度の大幅な向上と高スループットを実現、お客様の生産ラインでのCoO（Cost of Ownership）低減を実現いたします。
販売概要
| 商品名 | ニコンArFスキャナー NSR-S320F |
|---|---|
| 販売開始時期 | 2011年 第4四半期（10-12月） |
開発の背景
IT革命の根幹を担う超LSIの高集積化・微細化が進み、半導体業界では20ナノメートル世代プロセスのデバイス開発・生産に移行しています。最もクリティカルなレイヤは現在ではArF液浸スキャナーで露光をしますが、それ以外のレイヤでは通常、ArFスキャナーやKrFスキャナーで露光します。
NSR-S320Fは、この先端デバイスのニーズに対応したArFスキャナーで、液浸スキャナーで定評のあるストリームラインプラットフォームを採用することにより、より安定した稼働と高生産性を実現いたします。
スループットは当社従来機種比で約2倍に向上し、投資効率を大幅に改善しました。また重ね合わせ精度もArF液浸スキャナーと同等レベルを達成し、今後の更なる機能拡張性も兼ね備えています。
ストリームラインプラットフォーム（Streamlign Platform）の主な特長
1. 重ね合わせ精度の大幅な向上を実現する新干渉計システム：バーズアイ・コントロール（Bird's Eye Control）
エンコーダを利用し、空気揺らぎの影響を受けずにステージの位置を計測し、従来の干渉計計測とのハイブリッドなシステムを構成。重ね合わせ精度を大きく向上しました。
2. スループットの大幅な向上を実現する新計測技術：ストリームアライメント（Stream Alignment）
FIAの5眼化により、短時間でのアライメント計測を可能にしました。5眼化の効果により、全ショットに近い多点計測時でもスループット低下を最小限に抑えます。
3. メンテナンス性向上のための新モジュール構造：モジュラースクエアード・ストラクチャ（Modular2 Structure）
階層的なモジュール化を実現する事により、お客様先での立ち上げ時間を短縮し、さらに部品交換も平易化しました。そのため、メンテナンス性が大幅に向上しました。
主な性能
| 解像度 | 65ナノメートル以下 |
|---|---|
| NA（開口数） | 0.92 |
| 光源 | ArFエキシマレーザー （波長: 193 nm） |
| 縮小倍率 | ¼倍 |
| 最大露光領域 | 26 x 33 mm |
| 重ね合わせ精度 | 3ナノメートル以下 |
| スループット（300 mmウェハ毎時） | 200枚以上 |
こちらに掲載されている情報は、発表日現在の情報です。販売が既に終了している製品や、組織の変更等、最新の情報と異なる場合がありますのでご了承ください。